20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
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電暈放電和介質(zhì)阻擋放電誠(chéng)峰plasma設(shè)備的區(qū)別哪些：一、誠(chéng)峰plasma電暈放電? ? ? ?氣介質(zhì)在不均衡電場(chǎng)中的部分自持放電。它是最常見(jiàn)的的汽體放電方式。在回轉(zhuǎn)半徑小的前沿電極的附近，考慮到部...
發(fā)布時(shí)間:2022-03-10
等離子體表面處理儀crf搭配催化劑對(duì)反應(yīng)物有哪些作用？一、催化劑對(duì)反應(yīng)物有活化作用 催化劑通過(guò)吸附作用活化反應(yīng)物，促使反應(yīng)物轉(zhuǎn)化。催化作用下CH4活化及轉(zhuǎn)化機(jī)理研究顯示吸附于催化劑...
發(fā)布時(shí)間:2022-03-08
crf誠(chéng)峰智造plasma清洗機(jī)的工作方式: 現(xiàn)如今，普遍采用的清洗方法主要包括濕清洗和千法清洗。濕清洗有很大的限制性，從對(duì)環(huán)境的危害來(lái)看。充分考慮到材料的損耗和未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)，干式清洗明顯優(yōu)...
發(fā)布時(shí)間:2022-03-04
CRF電漿清洗機(jī)應(yīng)用下對(duì)負(fù)載型鑭系氧化物催化劑CO2氧化CH4制C2： 負(fù)載型鑭系氧化物催化劑具有良好的OCM反應(yīng)活性。在催化活化CO2氧化CH4制C2烴反應(yīng)中，La203/ZnO給出了高達(dá)97%的C2烴選擇性...
發(fā)布時(shí)間:2022-03-02
誠(chéng)峰plasma清洗塑料件表面清洗： 低溫誠(chéng)峰plasma清洗設(shè)備的表層改性是低溫等離子與塑料材質(zhì)橡膠產(chǎn)品表層相互作用的環(huán)節(jié)，如材料表層處理（塑料材質(zhì)表層處理、金屬制品、鋁表面處理、印刷...
發(fā)布時(shí)間:2022-02-28
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