許多接觸過(guò)等離子設(shè)備的人都知道，我們的等離子設(shè)備只是業(yè)界的總稱(chēng)，它可以分為許多種類(lèi)，比如有大氣等離子設(shè)備，有真空等離子設(shè)備，還有卷對(duì)卷等離子設(shè)備。那我們?nèi)绾螀^(qū)分我們的設(shè)備更適合哪種等離子設(shè)備呢？
有的人不了解等離子設(shè)備的特性，很有可能會(huì)覺(jué)著不論自身的設(shè)備是什么樣的，首先要考慮成本問(wèn)題，然后再優(yōu)先考慮大氣等離子設(shè)備。因此，從（專(zhuān)）業(yè)人士的角度來(lái)看，大氣等離子設(shè)備并不適合所有設(shè)備。所以在購(gòu)買(mǎi)設(shè)備的時(shí)候，要看是什么工藝，還要看設(shè)備的材質(zhì)等等，是否適合使用這種等離子設(shè)備。真空等離子設(shè)備是等離子設(shè)備中常用的設(shè)備。它的設(shè)備特性己經(jīng)達(dá)到很高水平。真空等離子設(shè)備不會(huì)影響設(shè)備特性。由此可見(jiàn)，客戶(hù)在購(gòu)買(mǎi)機(jī)器時(shí)可以先做一個(gè)初步的了解，他們的設(shè)備更適合什么樣的等離子設(shè)備。然后選擇，結(jié)果肯定不一樣。電漿設(shè)備一般適用于各類(lèi)板材的表面改性處理:表面清潔、表面活性(化學(xué))、表面腐蝕、表面沉積、表面聚合、電漿輔助化學(xué)氣相沉積。

        由于HDI基板的直徑縮小，傳統(tǒng)的化學(xué)清洗技術(shù)無(wú)法達(dá)到盲孔結(jié)構(gòu)的清洗，液體表面張力使藥液難以滲透到孔內(nèi)，特別是激光打孔時(shí)，可靠性差。目前，微埋盲孔的清洗技術(shù)一般有超生波清洗和等離子清洗兩種，超聲波清洗一般通過(guò)空化作用達(dá)到清洗目的，是濕法處置，清洗時(shí)間長(zhǎng)，而且依賴(lài)清洗液的去污特性，增加了廢液的處置。目前廣泛使用的工藝主要是等離子清洗工藝，其處理工藝簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境友好，清洗（效）果構(gòu)造很有效。
       等離子設(shè)備是指高活性(化學(xué))等離子體在電場(chǎng)作用下定向運(yùn)動(dòng)，與孔壁的鉆孔污染發(fā)生氣固化學(xué)反應(yīng)，同時(shí)通過(guò)抽氣泵將產(chǎn)生的氣體產(chǎn)物和一些未發(fā)生反應(yīng)的顆粒通過(guò)抽氣泵排出。高密度二維板盲孔清洗過(guò)程中，一般分為三步：先用高純氮?dú)猱a(chǎn)生等離子體，同時(shí)將印刷板預(yù)熱，使高分子材料處于某種活性(化學(xué))狀態(tài)；第二階段，O2和CF4是原始?xì)怏w，混合產(chǎn)生O和F等離子體，再與丙烯酸、PI、FR4、玻璃纖維等反應(yīng)，以達(dá)到去鉆孔污染的目的；第三階段，O2是原始?xì)怏w，由等離子體和反應(yīng)殘?jiān)逑纯妆凇?/span>
       在等離子設(shè)備清洗過(guò)程中，除了等離子體化學(xué)反應(yīng)，等離子體還與材質(zhì)表面發(fā)生物理反應(yīng)。離子粒子能除去材質(zhì)表面的原子，也能使材質(zhì)表面的原子附著，有利于清洗腐蝕反應(yīng)。
       由于材質(zhì)和技術(shù)的發(fā)展，埋藏盲孔構(gòu)造的實(shí)現(xiàn)越來(lái)越小，越來(lái)越精細(xì)的盲孔電鍍填孔，用傳統(tǒng)的化學(xué)除膠方法越來(lái)越困難，等離子設(shè)備處置的清法可以很好地克服濕法除膠的特性，并達(dá)到對(duì)盲孔、微孔的良好清洗（效）果。